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SGG-1系列相位法光速測(cè)量?jī)x適用于科研院所、高等院校物理實(shí)驗(yàn)室的光速測(cè)量。實(shí)驗(yàn)裝置內(nèi)調(diào)制被測(cè)信號(hào)的光強(qiáng)，測(cè)量光強(qiáng)調(diào)制波傳播距離變化所引起的相應(yīng)相位變化，Z終測(cè)定光速，并可以擴(kuò)展測(cè)量有機(jī)玻璃、人造水晶、無水乙醇等介質(zhì)的折射率。
更新時(shí)間：2025-10-24
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
主要參數(shù)： 電光晶體：LiNbO3（鈮酸鋰）；光源是半導(dǎo)體激光器；波長(zhǎng)650nm；功率≥2.5mW；導(dǎo)軌1000mm；偏振片φ20mm；1/4波片；晶體偏置電壓：0~400V（數(shù)碼顯示），交流內(nèi)調(diào)制信號(hào)電壓0-40VPP；頻率1KHZ（連續(xù)可調(diào)）
更新時(shí)間：2025-10-24
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
1、觀察聲光調(diào)制的衍射現(xiàn)象（布拉格衍射）；2、測(cè)試聲光晶體的調(diào)制特性；3、調(diào)制晶體：鉬酸鉛晶體；4、調(diào)制方式：橫向調(diào)制；5、調(diào)制電壓：0-40VPP；6、調(diào)制波形：1KHZ正弦波（或其他波形，例如鋸齒波）；7、調(diào)制帶寬：20MHZ；8、電源：220±10%，50HZ；9、激光波長(zhǎng)：650~680nm；
更新時(shí)間：2025-10-24
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
儀器介紹 本實(shí)驗(yàn)包括激光散斑照相和電子散斑干涉兩部分。利用二次曝光散斑圖進(jìn)行物體表面面內(nèi)位移場(chǎng)的測(cè)試，以及由此引伸出來的應(yīng)變、應(yīng)力場(chǎng)測(cè)試、距離、速度測(cè)試、物體內(nèi)在缺陷和振動(dòng)分析是散斑效應(yīng)Z有前途的應(yīng)用領(lǐng)域。利用電子散斑干涉對(duì)物體離面位移進(jìn)行測(cè)量，同時(shí)對(duì)傳統(tǒng)的干版曝光和計(jì)算機(jī)圖形處理兩種方法作比較，以加深對(duì)散斑干涉的理解。
更新時(shí)間：2025-10-23
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
儀器介紹 利用二次曝光散斑圖進(jìn)行物體表面面內(nèi)位移場(chǎng)的測(cè)試，以及由此引伸出來的應(yīng)變，距離，速度測(cè)試，物體內(nèi)在缺陷和振動(dòng)分析是散斑效應(yīng)Z有前途的應(yīng)用領(lǐng)域。 實(shí)驗(yàn)內(nèi)容 1、拍攝自由空間散斑和成像散斑圖，了解激光散斑現(xiàn)象及其特點(diǎn) 2、掌握二次曝光散斑圖的逐點(diǎn)分析和全場(chǎng)分析測(cè)物體面內(nèi)位移的方法
更新時(shí)間：2025-10-23
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
